Mensintesis Silikon Dioksida Terhidrat untuk Getah Silikon
JS-160 ialah kaedah pemendapan ketepatan untuk mensintesis silikon dioksida daripada getah silikon. Ia berfungsi dengan mengawal suhu, pH dan parameter lain untuk mencapai kebolehulangan tinggi dan keseragaman saiz zarah. Zarah yang disintesis mempunyai taburan saiz yang sempit, luas permukaan yang rendah dan nisbah oksigen-ke-silikon yang rendah.
Faedah menggunakan JS-160 untuk mensintesis SiO2 ialah ia menyediakan kaedah pemendapan berketepatan tinggi; kawalan unggul ke atas parameter proses menghasilkan zarah yang sangat seragam dan monodisperse; dan keseragaman saiz zarah. Penggunaan kaedah ini juga meningkatkan ketulenan silikon dioksida serta kestabilan dan keterserakannya. Kelebihan utama kaedah ini ialah pembentukan zarah homogen, kos rendah dan sintesis cepat.
JS-160 menghapuskan operasi manual, yang menjimatkan masa dan tenaga. Ia juga mengurangkan tekanan penulenan dan risiko pencemaran akibat persekitaran kerja yang tidak selesa dan pengendalian manual. Tambahan pula, ia menghasilkan zarah homogen dan seragam dalam masa yang singkat, yang boleh digunakan dalam pelbagai aplikasi dan pengeluaran.
JS-160 ialah alat yang sangat disesuaikan dan kos efektif untuk mensintesis silikon dioksida daripada silika/getah. Pelbagai parameter prosesnya membolehkan kawalan sintesis yang boleh dipercayai, menjadikannya pilihan ideal untuk proses dan pengeluaran sintesis tersuai. Selain itu, kaedah pemendapan berketepatan tinggi memberikan hasil yang lebih cekap dan konsisten serta meningkatkan kualiti, kebolehulangan dan kestabilan produk akhir.
Penerangan:
JS-160
|
Kaedah Ujian |
Hartanah |
Unit |
Nilai Sasaran (Had Spesifikasi) |
Nilai Sebenar |
|
HG/T3065-2008 |
Kerugian pada pengeringan (2Jam,105ijazah)加热减量 |
peratus |
Maks.6.5 |
5.50 |
|
HG/T3066-2008 |
Kehilangan penyalaan 1000ijazah 灼烧减量 |
peratus |
Maks.7.0 |
3.71 |
|
HG/T3072-2008 |
Nilai serapan DBP DBP吸收值 |
cm3/g |
2.00-3.50 |
2.45 |
|
HG/T3067-2008 |
nilai pH (10 peratus ampaian akueus) pH值 |
— |
5.0-8.0 |
6.81 |
|
HG/T3062-2008 |
SiO2 (Asas Kering) 2氧化硅(干基) |
peratus |
Min.98 |
98.4 |
|
HG/T3073-1999 |
BET kawasan permukaan khusus PERTARUHAN比表面积 |
m2/g |
130-160 |
145 |
|
Garam larut (Na2JADI4) 可溶性盐 |
peratus |
Maks.1.0 |
0.25 |
|
|
Kandungan daripadaFe 铁含量 |
ppm |
Maks.200 |
140 |
Pembungkusan
20kgs/beg 16-18mts/40HQ
MOQ
1*40HQ

Cool tags: silikon dioksida ketulenan tinggi untuk getah silikon China, kilang, pembekal, pengilang, beli, dibuat di China, ShaXian Sanming




